背景:
盡管鈣鈦礦太陽能電池(PSC)在短時(shí)間內(nèi)就實(shí)現(xiàn)了高功率轉(zhuǎn)換效率(PCE),但組成電子選擇層(ESL)的高溫?zé)Y(jié)阻礙了其商業(yè)化。在本報(bào)告中,我們展示了光子燒結(jié)(IPL)處理對用于PSC的非晶態(tài)SnO2ESL的快速無損燒結(jié)的有效性。對非晶態(tài)SnO2進(jìn)行IPL處理可顯著減少表面羥基的數(shù)量、改變表面能,并能夠生長出具有大晶粒尺寸的低應(yīng)力鈣鈦礦層,所有這些都增強(qiáng)了光伏性能,并使能帶結(jié)構(gòu)正確排列,從而實(shí)現(xiàn)高效的PSC。通過對IPL條件的全面優(yōu)化,經(jīng)過幾十秒處理的非晶態(tài)SnO2IPL制成的MAPbI3平面PSC的PCE達(dá)到17.68%,與未經(jīng)處理的SnO2基PSC的PCE(7.06%)相比有顯著提高。此外,經(jīng)過IPL處理的SnO2基PSC的PCE與在185°C下退火三小時(shí)的SnO2ESL制成的PSC的最佳PCE(18.16%)相當(dāng)。由于其超快的燒結(jié)時(shí)間并且不會損壞SnO2ESL,新的IPL工藝有望為PSC的商業(yè)化開辟新的機(jī)遇。
文獻(xiàn)介紹:
有機(jī)金屬鹵化物鈣鈦礦太陽能電池(PSC)因其出色的能量轉(zhuǎn)換效率(PCE)(可超過25.2%)而備受關(guān)注。如此出色的PCE是由于其具有較長的載流子擴(kuò)散長度、低激子結(jié)合能和良好的可見光譜吸收率。盡管具有這些優(yōu)異的性能和優(yōu)勢,PSC的商業(yè)化仍面臨著低溫溶液加工方面的嚴(yán)重問題。具體來說,具有平面器件架構(gòu)的PSC通常使用TiO2作為電子選擇層(ESL),這需要長時(shí)間(1-2小時(shí))高溫退火(>450°C)。此外,TiO2表現(xiàn)出較低的電子遷移率(0.1-1cm2V-1S-1)和較低的電導(dǎo)率(~1.1×10-5Scm-1),因此需要額外的介孔層來通過增加表面積來補(bǔ)償較低的遷移率和電導(dǎo)率。TiO2ESL更嚴(yán)重的問題是它們在紫外線照射下表現(xiàn)出光催化特性,這會導(dǎo)致鈣鈦礦材料分解并對器件穩(wěn)定性產(chǎn)生不利影響。為了克服TiO2的上述缺點(diǎn),研究人員對基于SnO2的ESL進(jìn)行了廣泛的研究,因?yàn)镾nO2具有高電子遷移率、高電導(dǎo)率、寬帶隙范圍(3.6-4.1eV)和良好的光穩(wěn)定性。Ke et al.報(bào)道稱,基于SnO2的PSC的性能取決于185°C至500°C之間的退火溫度,并得出結(jié)論,低溫退火可實(shí)現(xiàn)更好的表面覆蓋、更寬的光學(xué)帶隙和更高的電子遷移率。Park等人還報(bào)道,在低溫(185°C)下退火的Li摻雜SnO2表現(xiàn)出了大大改善的性能。盡管在低溫下處理的SnO2具有優(yōu)異的特性和性能,但這種方法在商業(yè)化方面仍然存在問題,因?yàn)镾nO2的延長退火時(shí)間需要在卷對卷設(shè)置中使用長批量爐。同時(shí),在印刷電子行業(yè),一種稱為強(qiáng)脈沖光(IPL)的無損工藝已被用作一種最小熱暴露方法來快速燒結(jié)納米顆粒薄膜。由于IPL工藝涉及用高強(qiáng)度脈沖光短時(shí)間照射氧化物薄膜表面,因此總處理時(shí)間縮短至幾十秒,并且基板損壞最小化。
這里,IPL輻照非晶態(tài)SnO2ESL用于合成性能更佳的高效甲基銨碘化鉛(MAPbI3)基平面PSC。在每個(gè)2毫秒脈沖期間,1.84Jcm?2的能量照射到非晶態(tài)SnO2薄膜的表面上;脈沖數(shù)會發(fā)生變化以優(yōu)化ESL性能。在幾十秒內(nèi)對非晶態(tài)SnO2薄膜進(jìn)行120次脈沖(~220Jcm?2)的IPL照射,可獲得PCE最高的PSC;最大PCE為17.68%,平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差為15.58%±0.85%。與基于未處理的SnO2的PSC(最大PCE為7.06%,平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差為2.65%±1.76%)相比,IPL處理顯著提高了光伏性能。值得注意的是,IPL處理的基于SnO2的PSC顯示出的PCE與采用185°C持續(xù)3小時(shí)的一般熱處理工藝制備的SnO2ESL的器件(最大PCE為18.16%)相似。我們發(fā)現(xiàn),通過減少羥基(-OH)物種的數(shù)量(起缺陷/陷阱狀態(tài)的作用),對非晶態(tài)-SnO2進(jìn)行IPL處理可顯著改善短路電流密度(Jsc)和開路電壓(Voc)。此外,與未經(jīng)處理的非晶態(tài)SnO2相比,經(jīng)輻照的SnO2ESL表現(xiàn)出增強(qiáng)的電導(dǎo)率和遷移率。本文給出的結(jié)果表明,IPL處理可以通過調(diào)節(jié)固有的MAPbI3特性(例如應(yīng)力和成核密度)在短時(shí)間內(nèi)有效控制ESL/鈣鈦礦界面,這使得該工藝非常有希望實(shí)現(xiàn)PSC的商業(yè)高通量制造。
引用:https://doi.org/10.1016/j.jmst.2021.03.045
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